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本论文集由世界各地牛津仪器的用户们根据操作经验撰写,特邀各位共赏。

牛津仪器目前正在中国科技大学纳米技术中心安装数台PlasmaPro等离子刻蚀和沉积设备,以促进其在微纳米技术领域的基础研究。中国科学技术大学纳米制造中心位于安徽合肥,致力于微纳米领域的跨学科交流和基础研究。

2013年中国国际纳米技术产业发展论坛暨纳米技术成果展于9月24-27日在苏州国际博览中心举行

作为半导体研究领域领先的刻蚀和沉积设备供应商,牛津仪器等离子部近期从行业内享有盛誉的中科院上海技术物理研究所获得一台PlasmaPro 100刻蚀设备订单。中科院上海技术物理研究所将采用这套先进的等离子刻蚀设备作半导体研究。

牛津仪器等离子部作为全球领先的批量和单晶圆等离子设备供应商,在生产和研究市场具有30多年经验,我们拥有大量生产设备用户,并可提供多种微机电应用的等离子工艺解决方案。

洛拉斯哥大学购入了一些新设备,其中包括牛津仪器制造的用于半导体材料刻蚀及电绝缘层沉积的等离子设备,此技术用于制造高性能电子和光学设备,包括晶体管、发光二极管和激光器。

作为等离子处理设备的主要供应商,牛津仪器等离子部推出最新的单晶片刻蚀技术- PlasmaPro 100 Single Wafer Etch。牛津仪器致力于固态照明的技术革新,凭着在HBLED相关材料方面经验丰富,设备使用成本控制和符合产量要求的同时,我们的新技术还可以最大化地提高客户的产品良率。  

2013年3月19-21日,新一届semicon如期在上海新国际博览中心召开,牛津仪器作为Semicon的常客也参加了此次盛会。  

2013 年5 月14 日,由牛津仪器等离子技术公司主办的“牛津仪器纳米级等离子工艺研讨会”在北京举行,来自广大企业及科研院所的160余名用户参加了此次会议。

基于前两年研讨会的成功经验,牛津仪器作为等离子刻蚀沉积工艺的领先供应商,将在北京和台湾举办纳米级等离子工艺研讨会。 研讨会将于5月14日在北京举办, 5月16日在台湾举办,届时牛津仪器国外应用专家及国内知名机构的用户将出席并发言。 本次研讨会的主题包括, Developments in ALD MEMS...

牛津仪器等离子部刚刚发布了批量刻蚀的新技术——新型的PlasmaPro1000 Astrea刻蚀设备,该设备可以为PSS, GaN 和AlGaInP提供大批量刻蚀提供解决方案,有助于HBLED制造商提高良率和降低使用者成本。

从中国最大的HBLED用户之一获得第400台设备订单,标志着牛津仪器在这个行业里获得了瞩目的成就,确立了牛津仪器行业领先的等离子刻蚀和沉积设备供应商的地位。