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碳化硅如今已是越来越重要的一种材料,尤其是在高性能氮化镓射频设备使用碳化硅作为衬底的研究领域。使这些设备顺利通过腐蚀碳化硅是至关重要的,牛津仪器为此开发了理想解决方案来高效刻蚀高质量的碳化硅。

第三十三届国际半导体物理大会(ICPS2016)将于北京召开。国际半导体物理大会是半导体物理领域内极高水平的学术会议,具有重大国际影响力。会议内容包括半导体物理研究的所有分支,如半导体的结构、电学、磁学、光学和输运性质及其它当前半导体物理领域的最前沿研究内容。 牛津仪器将现场展示无液氦光学恒温器样机,且有多名技术专家在现场恭候您的光临与交流。

全球领先的等离子刻蚀和沉积系统制造商牛津仪器等离子部,近期赢得了南京邮电大学多套用于硅和三五族刻蚀的等离子刻蚀系统。这些可高度灵活配置的PlasmaPro 100设备可进行广泛的工艺处理,非常适用于南京邮电大学所从事的纳米研究。PlasmaPro...

作为全球领先的工艺解决方案的提供商,牛津仪器近日发布了采用高性能纳米级生长系统Nanofab 来生长二硫化钼的工艺。单层二硫化钼是一种直接带隙半导体,被广泛应用于光电学,例如:发光二极管,太阳能光伏,光电探测器,以及生物传感器,而多层二硫化钼是一种引领未来趋势的非直接带隙半导体的数字电子技术。

2016年3月15日,半导体技术大会(SEMICON China)在上海新国际博览中心开幕,牛津仪器在展会上展示了纳米制造分析工具解决方案。

2016年3月14日,牛津仪器“新型纳米技术先进工艺研讨会”在上海浦东假日酒店举办,本次研讨会邀请了业内专家学者就纳米制造、新工艺技术等方面展开了一系列的学术交流,让在场的参会人员受益匪浅,更深入了解了牛津仪器在纳米技术方面的新产品、新进展和新应用。

自1988年首次在上海举办以来,SEMICON China已成为中国首要的半导体行业盛事之一,囊括当今世界上半导体制造领域主要的设备及材料厂商。SEMICON China见证了中国半导体制造业茁壮成长,加速发展的历史,也必将为中国半导体制造业未来的强盛壮大作出贡献。SEMICON China...

第29届IEEE微机电系统国际会议(MEMS 2016)于2016年1月24-28在上海国际会议中心举办。牛津仪器作为参展方携微机电系统全面解决方案亮相本次会议。IEEE...

2016年1月24-26日,我们与您在MEMS上海会场相见! 现场您可了解更多有关MEMS应用以及系统信息。

8月25至28日,牛津仪器出席于成都举办的第十一届全国分子束外延学术会议。纳米科学部和等离子技术部携无液氦光谱学恒温器、无液氦磁体低温系统、无液氦磁光系统以及等离子技术等解决方案出席本次会议。

近日,国内LED生产企业映瑞光电科技(上海)有限公司购买了牛津仪器多台最新的等离子体系统PlasmaPro800,用于高亮度LED的生产。英瑞光电企业的产品方向为高亮度LED电视背光源和LED照明,主要产品和服务范围涵盖了从蓝宝石衬底材料及图形化、外延片、芯片到封装测试的各个环节。   牛津仪器的大批量蚀刻系统PlasmaPro...

美国海军研究实验室、伦敦大学学院等最近都有购买多台牛津仪器等离子体设备。等离子化学气相沉积已成为纳米材料制备的重要工艺技术,尤其是石墨烯、碳纳米管及其他一维或二维纳米材料。