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等离子加工工艺技术是制造最新光电子器件的必要工具。从激光表面的干法刻蚀到高密度钝化,了解等离子体如何影响器件是实现最高质量的关键。牛津仪器等离子技术处于等离子体处理的前沿,有着悠久的发展创新解决方案的历史,使设备性能得以提升到下一个水平。本次研讨会将详述等离子刻蚀、原子层沉积(ALD)和等离子体介质化学气相沉积(CVD)的一些最新进展。在这方面,用户将...

牛津仪器公司于今天(8月9日)宣布计划在台湾工业技术研究所(ITRI)的研发基地增加人员。公司还计划利用工业研究所的研发能力加强在创新科技发展中的合作关系。在经济部下属的工业技术部顾问Y.Tim Tsai和台湾地区英国办事处代表Catherine Nettleton共同见证下,ITRI副总裁Jia-Ruey...

牛津仪器公司等离子技术部很高兴宣布公司已与韩国Woowon科技有限公司签署代理协议。Woowon,成立于1990年,是一家半导体产业的专家,为从事半导体,LED,太阳能和MEMS器件开发与制造的客户提供丰富的经验。

牛津仪器ALD和2D技术专家与Eindhoven科技大学研究团队合作,为纳米设备应用开发创新FlexAL-2D用于2D过渡金属二硫属元素的原子层沉积(ALD)。

由中国科学技术协会和深圳市科技创新委员会主办,清华大学深圳研究生院和清华-伯克利深圳学院共同承办的2017深圳国际石墨烯高峰论坛于2017年4月9日—12日在清华大学深圳研究生院召开。

牛津仪器作为HBLED制造业中主要的前沿技术设备供应商,自创立之初就在该行业中扮演着重要角色。目前本公司设备用于UV LEDs的推广,在水净化系统中得以应用, 为偏远地区带去安全的饮用水。

自1988年首次在上海举办以来,SEMICON China已成为中国首要的半导体行业盛事之一,囊括当今世界上半导体制造领域主要的设备及材料厂商。SEMICON China...

武汉光安伦光电技术有限公司刘志锋先生说道:“牛津仪器设备性能良好,操作简单。在刻蚀速率不一样的情况下仍能表现稳定,刻蚀深度与设置情况基本一致。并且,使用牛津仪器等离子设备刻蚀出的聚合物几乎没有。”

对射频器件来说,平稳快速的碳化硅背部刻蚀对高性能、高性价比的半导体来说是至关重要的。正如氮化镓高功率射频器件市场,牛津仪器提供了一种易于制造深孔刻蚀的工艺。牛津仪器等离子技术市场经理Mark Dineen博士称在《复合半导体》刊物中就此技术做出阐述。

仪器信息网讯 2016年11月17日,由牛津仪器等离子技术部和中山大学共同举办的“牛津仪器-中山大学用户学术交流研讨会”在名校环抱的广州南国会国际会议中心召开。近80名来自中山大学、华南理工大学等华南地区高校的用户专家代表及牛津仪器等离子技术部高层、应用专家参加了此次研讨会。

日前,第三届国际ALD应用会议及2016中国ALD大会在美丽的古城苏州落下帷幕。来自世界各地的技术专家们共聚一堂,交流各自实验结果与心得。如今,原子层沉积技术已广泛应用于许多领域,例如微电子,光电子,光学薄膜,纳米功能材料,微机电/纳米电磁系统,能量存储,生物技术,催化技术等等。这归功于原子层沉积技术一些独特的优势,例如纳米级厚度的精确控制,以及相对较...